- Résumé
- Table des matières
- Facteurs et opportunités
- Segmentation
- Analyse régionale
- Acteurs clés
- Méthodologie
- FAQ
- Demander un échantillon PDF
Taille du marché de la technologie du faisceau d'ions
Le marché de la technologie des faisceaux d'ions était évalué à 563,04 millions USD en 2024 et devrait atteindre 601,33 millions USD en 2025, avec une croissance prévue à 1 017,92 millions USD d'ici 2033, reflétant un taux de croissance annuel composé (CAGR) de 6,8% au cours des prévisions période de 2025 à 2033.
Le marché américain de la technologie des faisceaux d'ions devrait connaître une croissance significative en raison des progrès de la fabrication, de l'électronique et des télécommunications de semi-conducteurs. La demande d'applications de précision dans ces industries stimule l'expansion du marché.
Le marché de la technologie des faisceaux d'ions connaît une expansion rapide, tirée par une demande accrue dans diverses industries. Le marché comprend des systèmes de dépôt de faisceau d'ions et des systèmes de gravure du faisceau d'ions, qui font partie intégrante des applications telles que la coupe de fréquence des filtres à ondes acoustiques en vrac (BAW), la coupe de surface des filtres à onde acoustique de surface (SAW), l'épaisseur et la correction de la largeur du poteau de mince Les têtes d'enregistrement de films et le revêtement de films diélectriques. Ces technologies sont essentielles pour la fabrication de précision dans des secteurs comme les semi-conducteurs, les dispositifs médicaux et l'aérospatiale. Le marché devrait voir une croissance significative dans les années à venir, avec une adoption accrue dans différentes régions et secteurs.
Tendances du marché de la technologie du faisceau d'ions
Le marché de la technologie des faisceaux d'ions a connu une croissance significative en raison de la demande croissante de technologies de précision et de fabrication à haute performance. En particulier, le segment du système de dépôt de faisceau d'ions est devenu de plus en plus vital, capturant environ 40% de la part de marché. Ce système est crucial pour le dépôt de couches minces, utilisé largement dans les industries semi-conductrices et optiques. Le segment du système de gravure du faisceau d'ions représente près de 35% de la part de marché, car il est indispensable dans la fabrication de semi-conducteurs pour une gravure précise dans la fabrication d'appareils.
Des applications telles que la réduction de la fréquence des filtres à ondes acoustiques en vrac (BAW) ont acquis une part substantielle du marché, contribuant à environ 20% en raison de leur rôle essentiel dans les télécommunications et les dispositifs de communication sans fil. De même, la coupe de surface des filtres à ondes acoustiques de surface (SAW) est essentielle pour améliorer les performances des appareils mobiles et des équipements sans fil, capturant environ 15% du marché. L'épaisseur et la correction de la largeur des pôles des têtes d'enregistrement à couches minces sont de plus en plus essentielles dans l'industrie du stockage de données, ce qui représente près de 25% du marché. Le revêtement des films diélectriques, essentiel pour améliorer la durabilité et la fonctionnalité des composants électroniques, est une autre application clé contribuant à environ 10% au marché.
Au niveau régional, l'Amérique du Nord et l'Europe sont des acteurs majeurs du marché, les deux régions détenant environ 30% de la part de marché chacune. Ces régions sont connues pour leurs infrastructures technologiques avancées et leurs secteurs de recherche et développement solides. L'Asie-Pacifique, en particulier la Chine, le Japon et la Corée du Sud, constate la croissance la plus importante de l'adoption de la technologie des faisceaux d'ions, contribuant à environ 35% au marché global. L'expansion croissante de l'industrie des semi-conducteurs dans cette région est un moteur majeur de la croissance. Les marchés émergents en Amérique latine et au Moyen-Orient devraient augmenter régulièrement, contribuant à environ 10% de la part de marché d'ici 2033. Cette croissance est tirée par l'adoption croissante de technologies de fabrication avancées et les investissements croissants dans la recherche et le développement.
Le marché de la technologie des faisceaux d'ions devrait continuer à se développer avec les innovations dans les sources et l'instrumentation des faisceaux d'ions, des opportunités d'ouverture en science des matériaux, en biologie et en médecine. Les progrès dans ces domaines devraient générer un taux de croissance d'environ 8 à 10% par an au cours de la prochaine décennie. Alors que les industries intègrent de plus en plus la technologie du faisceau d'ions à la nanotechnologie et à la biotechnologie, de nouvelles opportunités de marché continueront d'émerger.
Dynamique du marché de la technologie du faisceau d'ions
Le marché de la technologie des faisceaux d'ions est influencé par plusieurs dynamiques qui ont un impact sur sa trajectoire de croissance. La demande de technologie du faisceau d'ions dans divers secteurs tels que l'électronique, les semi-conducteurs et la science des matériaux a fait avancer le marché. De plus, les innovations dans les sources de faisceaux d'ions et le besoin croissant de précision dans les processus de fabrication ont contribué de manière significative au développement du marché. Des facteurs tels que les progrès de la recherche et du développement, associés à l'intégration de la technologie du faisceau d'ions avec des domaines émergents comme la nanotechnologie, devraient entraîner une nouvelle adoption entre les industries. Les variations régionales de la demande, en particulier en Amérique du Nord, en Europe et en Asie-Pacifique, influencent également la dynamique du marché. La tendance continue vers la miniaturisation des appareils dans l'électronique et les semi-conducteurs devrait offrir de nouvelles opportunités à la technologie du faisceau d'ions, propulsant sa croissance du marché.
Moteurs de la croissance du marché
"Demande croissante de fabrication avancée de semi-conducteurs"
La demande croissante d'appareils semi-conducteurs avancés a été un moteur clé pour le marché de la technologie des faisceaux d'ions. Environ 40% du marché est tiré par l'industrie des semi-conducteurs, qui s'appuie fortement sur les systèmes de dépôt de faisceau d'ions et de gravure pour la précision de la microélectronique manufacturière. À mesure que le besoin de dispositifs plus petits, plus puissants et économes en énergie augmente, l'adoption de la technologie du faisceau d'ions devient crucial pour maintenir les normes de haute qualité dans la fabrication de semi-conducteurs. En outre, l'utilisation croissante des systèmes de faisceaux d'ions dans les dispositifs médicaux et les applications aérospatiales contribue également à la part de marché croissante, reflétant une tendance plus large des progrès technologiques dans diverses industries de haute technologie.
Contraintes de marché
"Coûts d'investissement initial élevé et opérationnel"
Malgré la croissance de la demande, une restriction majeure au marché de la technologie des faisceaux d'ions est le meilleur investissement initial et les coûts opérationnels associés à ces systèmes. Les systèmes de dépôt et de gravure des faisceaux d'ions nécessitent des investissements en capital importants, ce qui peut dissuader les petites entreprises d'adopter cette technologie. L'équipement est également coûteux à maintenir, ce qui entraîne des coûts opérationnels élevés. Environ 20% des acheteurs potentiels sur les marchés émergents citent le coût comme un obstacle important à l'adoption. De plus, la complexité des systèmes de faisceau d'ions nécessite des opérateurs qualifiés, ce qui fait augmenter les coûts pour les entreprises qui cherchent à intégrer cette technologie dans leurs opérations.
Opportunités de marché
"Expansion de la technologie du faisceau d'ions en science des matériaux"
Le marché de la technologie des faisceaux d'ions présente des opportunités importantes en science des matériaux, où la technologie est utilisée pour la modification de la surface, le dépôt de couches minces et l'analyse des matériaux. Comme les industries telles que l'automobile, l'aérospatiale et les énergies renouvelables adoptent de plus en plus la technologie des faisceaux d'ions pour les tests précis des matériaux et l'ingénierie de surface, le marché devrait se développer. Les systèmes de faisceaux d'ions offrent des capacités avancées dans la création de nanostructures et la modification des propriétés des matériaux au niveau atomique, ce qui les rend idéales pour les applications dans ces domaines. Environ 15% de la croissance du marché au cours de la prochaine décennie devrait être motivée par la demande de technologie du faisceau d'ions dans ces secteurs émergents.
Défis de marché
"Complexité technique et écart de compétences"
Un défi clé rencontré par le marché de la technologie des faisceaux d'ions est la complexité technique impliquée dans l'exploitation et le maintien des systèmes de faisceaux d'ions. Ces systèmes nécessitent des opérateurs et des techniciens hautement qualifiés qui maîtrisent la gestion des technologies avancées, et il existe un bassin limité de professionnels qualifiés. L'écart de compétences pose un défi pour les entreprises qui cherchent à adopter ces systèmes. De plus, la complexité des processus de faisceau d'ions nécessite des mises à jour constantes et une formation, ce qui peut conduire à des temps d'arrêt opérationnels. Environ 25% des entreprises sont confrontées à des défis dans le maintien d'une main-d'œuvre régulière avec l'expertise nécessaire, ce qui entrave une adoption généralisée de la technologie du faisceau d'ions dans certaines régions.
Analyse de segmentation
Le marché de la technologie des faisceaux d'ions est divisé en segments distincts en fonction des types et des applications. Par type, le marché est principalement classé en systèmes de dépôt de faisceau d'ions et aux systèmes de gravure du faisceau d'ions. Ces systèmes sont essentiels pour diverses applications dans différentes industries, notamment la fabrication de semi-conducteurs, la production de dispositifs médicaux et le traitement des matériaux. Par application, le marché est segmenté en coupe de fréquence des filtres à ondes acoustiques en vrac (BAW), à la coupe de surface des filtres d'onde acoustique de surface (SAW), à l'épaisseur et à la correction de la largeur des poteaux des têtes d'enregistrement à couches minces et du revêtement de films diélectriques. Chaque application sert un objectif unique et contribue de manière significative à la croissance du marché.
Par type
- Système de dépôt de faisceau d'ions: Le système de dépôt de faisceau d'ions détient une part substantielle du marché, représentant environ 40%. Ce système est principalement utilisé dans les processus de dépôt à couches minces, qui sont cruciaux pour les applications dans les semi-conducteurs, l'optique et l'électronique. Le système de dépôt de faisceau d'ions offre une précision dans le contrôle de l'épaisseur et de la qualité des films déposés, ce qui le rend idéal pour les applications haute performance. La demande croissante de revêtements de haute qualité dans l'industrie des semi-conducteurs, en particulier pour les appareils semi-conducteurs, est un moteur clé pour l'adoption de systèmes de dépôt de faisceau d'ions. La miniaturisation croissante des dispositifs semi-conducteurs amplifie encore la nécessité de ces systèmes.
- Système de gravure du faisceau d'ions: Le système de gravure du faisceau d'ions représente environ 35% de la part de marché. Il joue un rôle vital dans le processus de fabrication de semi-conducteurs, où une gravure précise est nécessaire pour définir les modèles sur les substrats. Le système utilise le bombardement ionique pour gravir des matériaux à haute précision, ce qui est essentiel pour produire des micropuces et d'autres dispositifs électroniques. À mesure que la technologie des semi-conducteurs progresse et que la nécessité de dispositifs plus petits et plus efficaces augmente, la demande de systèmes de gravure du faisceau d'ions continue d'augmenter. Ce système est également crucial dans des applications telles que le nettoyage de surface et l'analyse des matériaux, contribuant à sa part de marché importante.
Par demande
Le marché de la technologie des faisceaux d'ions sert plusieurs applications critiques, chacune contribuant à sa demande croissante dans diverses industries.
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Coupage de fréquence du filtre à onde acoustique en vrac (BAW): La réduction de la fréquence des filtres BAW en utilisant la technologie du faisceau d'ions a gagné un traction significative, en particulier dans les secteurs des télécommunications et de l'électronique. La précision offerte par les systèmes de faisceau d'ions assure le réglage fin des fréquences du filtre, l'amélioration des performances des téléphones mobiles, des systèmes radar et d'autres dispositifs de communication RF. En fait, plus de 25% de la demande mondiale de systèmes de faisceaux d'ions est entraînée par la nécessité d'un réglage du filtre BAW, car ces systèmes sont essentiels pour atteindre la haute précision requise dans les technologies de communication modernes.
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Coupage de surface du filtre à onde acoustique de surface (scie): La technologie du faisceau d'ions est également largement utilisée pour la coupe de surface des filtres à scie, qui sont des composants pivots dans les appareils de communication mobiles et les applications automobiles. Les filtres SAW sont utilisés pour le traitement du signal, et leurs performances dépendent fortement du réglage précis de leurs surfaces. L'utilisation de la gravure du faisceau d'ions dans cette application a augmenté d'environ 20% au cours des dernières années, en raison de la demande croissante de dispositifs sans fil haute performance.
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Correction d'épaisseur et de largeur du poteau de la tête d'enregistrement à couches minces: La technologie du faisceau d'ions est essentielle pour l'épaisseur et la correction de la largeur des pôles dans les têtes d'enregistrement à couches minces, qui sont couramment utilisées dans les disques durs (disques durs). La précision de la gravure du faisceau d'ions permet aux fabricants de faire des ajustements au niveau microscopique, garantissant les performances optimales des têtes d'enregistrement. Cette application est responsable d'environ 15% de la part de marché dans la technologie des faisceaux d'ions, avec une croissance tirée par l'industrie du stockage de données en expansion et une demande croissante de capacités de stockage plus élevées.
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Revêtement du film diélectrique: Le dépôt de faisceau d'ions joue un rôle crucial dans le revêtement des films diélectriques, qui sont utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs, l'optique et même les panneaux solaires. La capacité des poutres ioniques à déposer des revêtements minces et uniformes les rend inestimables pour améliorer la qualité et les performances des films diélectriques. Cette application devrait augmenter de plus de 18% dans les années à venir, alimentée par la demande croissante d'électronique avancée et de technologies d'énergie renouvelable. En fait, il est prévu que plus de 30% de la demande de systèmes de faisceaux d'ions proviendra de l'industrie du revêtement diélectrique à mesure que les progrès technologiques continuent d'évoluer.
Perspectives régionales
Les perspectives régionales du marché de la technologie des faisceaux d'ions reflètent une croissance significative dans plusieurs régions. L'Amérique du Nord, l'Europe et l'Asie-Pacifique sont les principales régions stimulant le marché en raison de l'adoption croissante de la technologie des faisceaux d'ions dans la fabrication de semi-conducteurs, l'électronique et la science des matériaux. Les marchés émergents en Amérique latine, au Moyen-Orient et en Afrique devraient également contribuer à la croissance du marché à mesure que la demande de technologies de précision augmente dans ces régions.
Amérique du Nord
L'Amérique du Nord détient une part importante du marché de la technologie des faisceaux d'ions, représentant environ 30% du marché mondial. Les États-Unis sont le plus grand contributeur à ce marché régional en raison de son industrie avancée des semi-conducteurs et des efforts de recherche et développement en cours dans la technologie. La demande de fabrication de haute précision dans des secteurs tels que l'électronique, l'aérospatiale et les dispositifs médicaux anime encore la croissance du marché. En outre, les solides infrastructures technologiques et les investissements de la région dans la technologie des faisceaux d'ions devraient maintenir sa domination du marché. L'adoption de systèmes de faisceaux d'ions pour la fabrication de semi-conducteurs, ainsi que les applications en nanotechnologie et en science des matériaux, continue de faire la croissance dans la région.
Europe
L'Europe est une autre région clé pour le marché de la technologie des faisceaux d'ions, détenant une part d'environ 30%. La région abrite plusieurs industries manufacturières avancées, notamment l'automobile, l'aérospatiale et l'électronique, qui s'appuient de plus en plus sur les technologies de faisceau d'ions pour un traitement précis des matériaux. Des pays comme l'Allemagne, la France et le Royaume-Uni ouvrent la voie à l'adoption de ces technologies, en particulier pour les applications en science des semi-conducteurs et des matériaux. En outre, l'Europe investit massivement dans la recherche et le développement pour stimuler l'innovation dans la technologie des faisceaux d'ions. En conséquence, le marché devrait continuer à se développer alors que les industries reconnaissent de plus en plus la valeur de la technologie du faisceau d'ions pour les applications de haute précision.
Asie-Pacifique
L'Asie-Pacifique est la région à la croissance la plus rapide du marché de la technologie des faisceaux d'ions, avec une part de marché d'environ 35%. L'expansion rapide de l'industrie des semi-conducteurs dans des pays comme la Chine, le Japon et la Corée du Sud est un moteur majeur de croissance dans cette région. Ces pays sont les principaux producteurs de dispositifs semi-conducteurs, et la demande de technologies de fabrication avancées telles que le dépôt de faisceau d'ions et les systèmes de gravure est élevée. En outre, la concentration croissante d'Asie-Pacifique sur le développement de l'électronique et de la science des matériaux à haute performance devrait contribuer davantage à la domination de la région sur le marché de la technologie des faisceaux d'ions. L'adoption rapide par la région des nouvelles technologies et du développement des infrastructures continue de stimuler la croissance sur le marché.
Moyen-Orient et Afrique
La région du Moyen-Orient et de l'Afrique adopte progressivement la technologie des faisceaux d'ions, avec une part d'environ 5% sur le marché mondial. La région est témoin d'une demande croissante de technologies de fabrication avancées, en particulier dans des industries telles que le pétrole et le gaz, l'électronique et la défense. Plusieurs pays du Moyen-Orient, dont les Émirats arabes unis et l'Arabie saoudite, investissent dans des technologies de pointe pour améliorer leurs capacités de fabrication. De plus, il y a un intérêt croissant à adopter des technologies de précision comme les systèmes de faisceaux d'ions pour des applications en science des matériaux et en recherche. Bien que le marché de cette région en soit encore à ses débuts, le potentiel de croissance est significatif, motivé par l'augmentation des investissements dans la recherche et le développement.
Les principales sociétés profilées sur le marché de la technologie des faisceaux ioniques
- Carl Zeiss
- Canon Anelva
- Fei
- Hitachi High-Technologies
- Meyer Burger
- Plasma-therm
- Raith GmbH
- Scia Systems GmbH
- 4wave Incorporated
- Veeco Instruments
Les principales sociétés profilées sur le marché de la technologie des faisceaux ioniques
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Carl Zeiss: Part de marché: 28%
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Canon Anelva: Part de marché: 22%
Analyse des investissements et opportunités
Le marché de la technologie des faisceaux d'ions présente des possibilités d'investissement importantes dirigés par ses applications dans diverses industries à forte croissance, telles que la fabrication de semi-conducteurs, l'électronique et la science des matériaux. Avec un marché qui évolue rapidement, l'investissement dans la recherche et le développement devrait stimuler la croissance future du marché. Les entreprises investissent fortement dans de nouvelles technologies qui améliorent l'efficacité, la précision et la polyvalence des systèmes de faisceaux d'ions. Par exemple, la demande de dispositifs de semi-conducteurs plus petits et plus efficaces pousse les entreprises à améliorer leur dépôt de faisceau d'ions et les systèmes de gravure pour répondre à ce besoin.
De plus, l'accent est mis de plus en plus sur l'automatisation des systèmes de faisceaux d'ions, qui devraient attirer les investissements des entreprises qui cherchent à rationaliser les processus de production. Comme des industries comme les télécommunications et l'aérospatiale adoptent de plus en plus la technologie des faisceaux d'ions, il y a également une augmentation du financement du capital-investissement et du capital-risque pour les startups axées sur l'innovation dans cet espace. Des pays comme la Chine, les États-Unis et le Japon sont considérés comme des centres d'investissement clés, où les investissements gouvernementaux et privés sont activement dirigés vers le développement de technologies de faisceau d'ions de nouvelle génération.
De plus, les fusions et acquisitions stratégiques deviennent de plus en plus courantes à mesure que les grandes entreprises cherchent à étendre leurs portefeuilles de produits et à entrer dans de nouveaux marchés régionaux. La demande croissante de fabrication de meilleure qualité dans les industries telles que les dispositifs médicaux et les énergies renouvelables alimente les opportunités d'investissement sur le marché.
Développements de nouveaux produits dans la technologie du faisceau d'ions
Le marché de la technologie des faisceaux d'ions a vu plusieurs nouveaux développements de produits qui visent à améliorer les performances et les fonctionnalités de ces systèmes. Par exemple, les entreprises se concentrent sur l'amélioration de la précision et de la résolution des systèmes de dépôt et de gravure d'ions, ce qui est essentiel pour les applications de semi-conducteurs. De nouveaux systèmes avec une efficacité énergétique plus élevée sont également en cours de développement pour répondre à la demande croissante de solutions écologiques dans les processus de fabrication.
Au cours de la dernière année, les principaux acteurs du marché ont introduit des systèmes de gravure de faisceau d'ions de nouvelle génération qui intègrent des fonctionnalités avancées telles que le contrôle automatisé et la surveillance en temps réel. Ces innovations permettent un traitement de matériaux plus cohérent et précis, ce qui est essentiel pour les industries nécessitant une microélectronique et une nanotechnologie de haute qualité. De plus, l'accent a été important sur le développement de systèmes de faisceaux d'ions capables de fonctionner à des vitesses plus élevées, permettant des processus de fabrication plus rapides sans compromettre la qualité.
Plusieurs sociétés intègrent également l'intelligence artificielle (IA) et les algorithmes d'apprentissage automatique dans leurs systèmes de faisceaux d'ions pour optimiser leurs performances et prédire les exigences de maintenance. Cette intégration de l'IA améliore l'efficacité globale et la fiabilité de la technologie des faisceaux d'ions, qui devrait entraîner une nouvelle adoption entre les industries.
Développements récents par les fabricants
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Carl Zeissa lancé un système de dépôt de faisceau d'ions amélioré au début de 2023, incorporant une conception optique avancée pour augmenter la vitesse de dépôt et la précision, améliorant les processus de fabrication de semi-conducteurs.
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Canon AnelvaIntroduit un nouveau système de gravure du faisceau d'ions à la mi-2023 qui offre une résolution et une uniformité de gravure améliorées, ciblant la demande croissante de microélectronique haute performance.
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Feia dévoilé un nouveau système de faisceau d'ions hybrides à la fin de 2023, intégrant les technologies de faisceau d'ions et de faisceaux d'électrons pour fournir une double fonction du traitement avancé des matériaux.
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Plasma-therma libéré un système de gravure de faisceau d'ions de nouvelle génération en 2024, conçu pour un traitement à haut débit dans les applications de semi-conducteurs, permettant une fabrication d'appareils plus rapide et plus précise.
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Veeco Instrumentsa annoncé le développement d'un nouveau système de dépôt de faisceau d'ions au début de 2024, qui vise à améliorer l'efficacité et l'évolutivité du dépôt de film mince pour les applications d'énergie solaire.
Signaler la couverture du marché de la technologie des faisceaux d'ions
Ce rapport fournit une analyse complète du marché de la technologie des faisceaux d'ions, offrant des informations sur sa taille, sa part, son potentiel de croissance et ses tendances de l'industrie. Il couvre le marché par types, y compris les systèmes de dépôt de faisceau d'ions et les systèmes de gravure des faisceaux d'ions, et explore diverses applications telles que la coupe de fréquence des filtres BAW, la coupe de surface des filtres à scie, l'épaisseur et la correction de la largeur des pôles des têtes d'enregistrement à film mince et le revêtement des films diélectriques. Le rapport fournit également une analyse régionale détaillée, examinant les principaux marchés comme l'Amérique du Nord, l'Europe, l'Asie-Pacifique et le Moyen-Orient et l'Afrique. En outre, il met en évidence la dynamique actuelle du marché, y compris les moteurs, les contraintes, les opportunités et les défis affectant le marché. De plus, le rapport comprend un paysage concurrentiel avec des profils de grandes entreprises et des développements récents, fournissant une compréhension claire de l'environnement concurrentiel du marché et des perspectives d'avenir.
Reporter la couverture | Détails de rapport |
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Les meilleures entreprises mentionnées |
Carl Zeiss, Canon Anelva, Fei, Hitachi High-Technologies, Meyer Burger, Plasma-Therm, Raith GmbH, Scia Systems GmbH, 4wave Incorporated, Veeco Instruments, |
Par applications couvertes |
Coupage de fréquence du filtre à onde acoustique en vrac (BAW), garniture de surface du filtre à onde acoustique de surface (scie), épaisseur et correction de la largeur des pôles de la tête d'enregistrement de film mince, revêtement de film diélectrique, |
Par type couvert |
Système de dépôt de faisceau d'ions, système de gravure du faisceau d'ions |
Nombre de pages couvertes |
114 |
Période de prévision couverte |
2025 à 2033 |
Taux de croissance couvert |
CAGR de 6,8% au cours de la période de prévision |
Projection de valeur couverte |
1017,92 millions USD d'ici 2033 |
Données historiques disponibles pour |
2020 à 2023 |
Région couverte |
Amérique du Nord, Europe, Asie-Pacifique, Amérique du Sud, Moyen-Orient, Afrique |
Les pays couverts |
États-Unis, Canada, Allemagne, Royaume-Uni, France, Japon, Chine, Inde, Afrique du Sud, Brésil |